王钰蓉

教育经历:

• 2003年-2008年，浙江大学理学博士学位

• 1998年-2002年，浙江大学理学学士学位

工作经历：

   2010年-至今，welcome欢迎光临威尼斯公司，welcome欢迎光临威尼斯公司

• 2002年-2003年，杭州格林费尔生化技术有限公司

研究方向:

• 金属表面处理，主要涉及：镀液开发，金属镀层沉积机理，镀层性能分析和改进等方面的研究。

教学科研项目:

教学项目：

• 案例教学在工业分析技术中的实践与探索，校教育教学研究课题，2013.06-2015.05，主持

科研项目：

1. 氯化胆碱及其类似物作为多功能有机添加剂在电镀镍中的作用和机理研究，国家自然科学青年基金项目，2015.1-2017.12，主持（在研）

2. 氯化胆碱在浸渡法可控制备银镀层中的应用和机理研究，国家自然科学基金专项基金项目，2014.01-2014-12，主持（结题）

3. 离子液体和水均相体系中化学镀银的机理研究及体系筛选，江苏省高校自然科学研究面上项目，2013.08-2015.12，主持（结题）

发表论文

• Yurong Wang，Caihong Yang，Jiawei He，Wenchang Wang，Jianhua Shi，Naotoshi Mitsuzaki，Zhidong Chen*，Effects of choline chloride on electrodeposited Ni coating from a Watts-type bath，Appl. Surf. Sci.，372，1-6，2016.

•  Qian Zhang，Yurong Wang，Wenchang Wang，NaotoshiMitsuzak，Zhidong Chen*，Low voltage and ambient temperature electrodeposition of uniform carbon films，Electrochem. Commun.，63，22-25，2016.

• Yurong Wang，Wei Li，Wenchang Wang，Naotoshi Mitsuzak，Weiliang Bao，Zhidong Chen*，Thick pure palladium film with varied crystal structure electroless deposited from choline chloride–palladium chloride solution without the addition of reductant，Thin Solid Films，586，35-40，2015.

• Yurong Wang，Xiaoyun Cao，WenchangWang，NaotoshiMitsuzak，Zhidong Chen*，Immersion gold deposition from a chloroauric acid–choline chloride solution: Deposition kinetics and coating performances，Surf. Coat. Technol.，265，62-67，2015.

• Yurong Wang，Xiaoyun Cao，Jianyu Cao，WenchangWang，NaotoshiMitsuzak，Zhidong Chen*，Detection of ferric ion in lithium iron phosphate based on fluorescence quenching of 2-phridinecarbaldehyde-p-phenyldihydrazone，J. Appl. Spectroscopy，82，188-192，2015.

• 王钰蓉，曹小云，陈靓，何嘉伟，光崎尚利，包伟良，陈智栋*，温度对浸镀锡镀层的影响，welcome欢迎光临威尼斯公司学报（自然科学版），27（1），32-36，2015.

• Yurong Wang，Jiawei He，Jianhua Shi，Wenchang Wang，Jianhua Shi，Naotoshi Mitsuzaki，Zhidong Chen*，Preparation and characterization of Ni-P/Ni3.1B compositealloy coatings，Appl. Surf. Sci.，292，462-468，2014.

• Yurong Wang，Jiawei He，Wenchang Wang，Mitsuzaki Naotoshi，Zhidong Chen*，Sustained Immersion Tin Deposition on Copper from Choline Chloride Based Aqueous Solution without Reducing Agent，J Electrochem. Soc.，160（8），D295-D299，2013.

• Yurong Wang，Yang Zhou，Wenchang Wang，Zhidong Chen*，Sustained deposition of silver on copper surface from choline chloride aqueous solution，J Electrochem. Soc.，160（3），D119-D123，2013.

• 王钰蓉，周阳，王文昌，陈智栋*，氯化胆碱溶液中铜置换银机理及动力学研究，电镀与精饰，35（10），5-9，2013.

• 王钰蓉，王文昌，石建华，光崎尚利，陈智栋*，用于化学复合镀的Ni3.1B非晶态纳米合金粉体的制备，电镀与精饰， 35（8），7-15，2013.

• 石建华，王钰蓉，王文昌，刘智超，陈智栋*，铜基化学镀Ni-P-B合金工艺及镀层性能研究，电镀与精饰， 34（2），1-5，2012.

• 王钰蓉，陈恒武*，芯片毛细管电泳-安培检测系统，化学进展，21（1），200-209，2009.

• Yurong Wang，Hengwu Chen*，Qiaohong He，Steven A. Soper，A high performance polycarbonate electrophoresis microchip with integrated three electrode system for end-channel amperometric detection，Electrophoresis，29，1881-1888，2008.

• Yurong Wang，Hengwu Chen*，Integrated capillary electrophoresis amperometric detection microchip with replaceable microdisk working electrode: II. Influence of channel cross-sectional area on the separation and detection of dopamine and catechol，J. Chromatogr. A，1080，192-198，2005.

授权专利

• 基于咪唑盐离子液体的化学镀银溶液及镀银方法，ZL 201110309598.9，2014，中国，第一发明人。

• 选择性剥离银镀层及银镀层中元素定量分析的前处理溶液，ZL201110308949.4，2013，中国，第二发明人。